Пожертвування 15 вересня 2024 – 1 жовтня 2024 Про збір коштів
1

Deposition of amorphous silicon films from an electrostatically confined silane plasma

Рік:
1987
Мова:
english
Файл:
PDF, 168 KB
english, 1987
2

In situ optical characterizations for rf plasma deposited a-Si: H thin films

Рік:
1989
Мова:
english
Файл:
PDF, 274 KB
english, 1989
3

Real time controlled rf reactor for deposition of a-Si:H thin films

Рік:
1989
Мова:
english
Файл:
PDF, 235 KB
english, 1989
4

Determination of the complex refractive index multilayer structures by spectroscopic rotating analyzer ellipsometry

Рік:
1989
Мова:
english
Файл:
PDF, 215 KB
english, 1989
5

Structure of a-Si: H/a-Si1−xCx: H multilayers deposited in a reactor with automated substrate holder

Рік:
1993
Мова:
english
Файл:
PDF, 636 KB
english, 1993